Информатика и системы управления
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
Другие журналы

электронный журнал

МОЛОДЕЖНЫЙ НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ВЕСТНИК

Издатель ФГБОУ ВПО "МГТУ им. Н.Э. Баумана". Эл No. ФС77-51038. ISSN 2307-0609

Литографические проблемы формирования контактных окон по технологии с минимальной проектной нормой 0.25 мкм

Молодежный научно-технический вестник # 12, декабрь 2013
УДК: 621.382
Файл статьи: Благова С.В..pdf (576.25Кб)
автор: Благова С. В.

1.            Конструкторско-технологическое проектирование электронных средств / Под общ. редакцией В.А.Шахнова. – М.: Изд-во МГТУ им.Н.Э.Баумана, 2002. – 500 с.

2.            Благова С.В. Разработка и исследование литографического процесса формирования топологических слоёв контактных окон по технологии с проектными нормами 0.25 мкм. Квалификационная работа бакалавра. — М: МГТУ, 2013.

3.            Chris Mack. Fundamental principles of optical lithography. – Wiley, 2007. – 515 c.

4.            Моро У. Микролитография. Принципы. Методы. Материалы. Часть 1. Перевод с английского под ред. канд. физ.-мат. наук Д.Ю. Зарослова — М: Мир, 1990. – 612 с.

5.            Благова С.В. Оценка влияния толщины маскирующего покрытия фотошаблона на его литографические возможности. Режим доступа:

http://sntbul.bmstu.ru/doc/593478.html (дата обращения 27. 10. 2013).

Поделиться:
 
ПОИСК
 
elibrary crossref neicon rusycon
 
ЮБИЛЕИ
ФОТОРЕПОРТАЖИ
 
СОБЫТИЯ
 
НОВОСТНАЯ ЛЕНТА



Авторы
Пресс-релизы
Библиотека
Конференции
Выставки
О проекте
Rambler's Top100
Телефон: +7 (499) 263-61-98
  RSS
© 2003-2017 «Молодежный научно-технический вестник» Тел.: +7 (499) 263-61-98