Информатика и системы управления
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
Другие журналы

электронный журнал

МОЛОДЕЖНЫЙ НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКИЙ ВЕСТНИК

Издатель ФГБОУ ВПО "МГТУ им. Н.Э. Баумана". Эл No. ФС77-51038. ISSN 2307-0609

Использование процедуры коррекции эффекта оптической близости в слое металлизации элементов библиотеки проектирования 0.25 мкм КМОП СБИС

Молодежный научно-технический вестник # 09, сентябрь 2014
УДК: 681.382
Файл статьи: Ковалев Д.Д..pdf (946.07Кб)
автор: Ковалев Д. Д.

1.       Волков С.И., Глушко А.А., Морозов С.А. Исследование и моделирование факторов, ограничивающих радиационную стойкость КНИ // Труды НИИСИ РАН. Математическое и компьютерное моделирование систем: прикладные аспекты. 2011. Т. 1. №1. С. 51-56.

2.       Chris Mack. Fundamental Principles of Optical Lithography: The Science of Microfabrication. Austin: Wiley, 2007. 534 p.

3.       Design Rules MOSIS Scalable CMOS (SCMOS) (Revision 8.00) Режим доступа: http://www.mosis.com/files/scmos/scmos.pdf (дата обращения 23.07.2014).

4.       Демин С.В., Амирханов А.В., Михальцов Е.П., Родионов И.А., Тафинцева Е.В. Особенности топологического проектирования субмикронных КМОП СБИС с учетом литографических ограничений // Математическое и компьютерное моделирование систем: теоретические и прикладные аспекты: сб. науч. тр. Москва, 2009. С. 24-31.

5.       Ковалев Д.Д. Разработка правил коррекции и верификации типовых топологических ситуаций в слое металлизации библиотеки проектирования 0,25 мкм КМОП СБИС // XVI Международная молодежная научно-техническая конференция «Наукоемкие технологии и интеллектуальные системы» (Москва, 23-24 апреля 2014 г.): труды. Москва, 2014. С. 195-208.

Поделиться:
 
ПОИСК
 
elibrary crossref neicon rusycon
 
ЮБИЛЕИ
ФОТОРЕПОРТАЖИ
 
СОБЫТИЯ
 
НОВОСТНАЯ ЛЕНТА



Авторы
Пресс-релизы
Библиотека
Конференции
Выставки
О проекте
Rambler's Top100
Телефон: +7 (499) 263-61-98
  RSS
© 2003-2017 «Молодежный научно-технический вестник» Тел.: +7 (499) 263-61-98